1．中頻電源、真空爐爐體、感應圈之冷卻水源——蓄水池之水有必要充溢，水中不得有雜質。 2．開動水泵，使其中頻電源，真空爐感應圈、爐體冷卻體系水循環正常，并調整水壓控制在規定值。

操控熱處理首要是為了防止氧化和脫碳， 并精確操控 滲碳和滲氮。依據用戶要求，可提供各種價格適中，樣式多樣，可控氣氛爐功能優秀的產品。它們中的大多數能夠精確地優化，猜測和操控碳濃度的散布，并取得抱負的濃度散布和浸透層結構；經過簡單的菜單設計和友愛的人機界面即可完成計算機辦理。

真空爐是在真空環境中進行加熱的設備，一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空體系、供電體系和控溫體系等組成。真空爐按加熱元件分為真空電阻爐、真空感應爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐和等離子爐等。真空爐一般在春秋時節泄漏故障較多，長時刻閑置的真空爐在才次運用時真空爐泄漏故障比較易發生。這時刻就必須進行真空檢漏，真空檢漏一般采取每月一次測壓升率(在常溫下，封閉所有真空閥，中止真空體系工作，1Omin后讀一個數，1h后再讀一個數，兩數之差是壓升率的數值)，把握設備泄漏改變趨勢，如真空設備接連停機一個禮拜，要空工作一次（進行烘爐）。

真空熱處理爐溫控體系采用智能溫控外表，溫控精度為百分之零點一，根據產品工藝曲線，編制了計算機操控程序，對真空爐的升溫、保溫、冷卻進程和溫控外表的運轉進行操控，停止PC機的自動操控，完成進程曲線溫度操控的技術要求

裝料時，要確保平穩，以防工件跌落；料盤要定位準確，以免料盤和加熱室相撞，嚴禁真空爐超載運轉。

真空分為物理真空和工業真空兩種。物理真空是指沒有任何粒子存在的空間，工業真空是指氣壓比一標準大氣壓小的氣體空間，是指淡薄的氣體狀態，一般是用特殊的抽氣機得到真空的。真空爐的真空屬于工業真空。

1、石墨反射屏：一般在真空爐上運用的有硬氈和軟氈兩種，適用于一般鋼材的真空淬火、回火、退火。高溫釬焊、粉末冶金和燒結等。 2、金屬隔熱屏：一般在真空爐上運用的有不銹鋼和鉬兩種。鉬反射屏適用于高溫、對爐內環境要求較高的資料的（如：高溫合金、鈦合金、磁性資料等）淬火、退火、高溫釬焊、燒結等。不銹鋼飯射屏適用于回火、低溫退火、時效、真空鋁釬焊等，一些低溫爐型的挑選。