本發明涉及的內容,是在真空爐內零件滲碳的操控辦法,當把碳載體的碳氫化合物氣體通入真空爐內時,可用這種辦法進行操控。分別在真空和負壓下的滲碳是眾所周知的。可用碳氫化合物氣體作為氣體滲碳劑,而最常用的是甲烷。在爐內的若干氣體成分是已知的,例如是CH‘和N:,或是CH‘+CO十N:、一H:。用這些辦法,由于在氣體和滲碳鋼所需碳量之間沒有形成化學平衡狀態,故必須采取在氣體中供應過多碳的措施,例如通過供應0H4的辦法。這種必要的過多碳氫化合物氣體供應量有個缺陷,便是在其反響進程尚未到達鋼件外表便發生游離碳,比如甲烷的反響CH‘=C+ZH:炭黑由這種游離碳而發生,跟著濃度增高,這種炭黑便成炭黑云而可見。
它有兩個缺陷:
    一、是妨礙滲碳;
    二、是污染滲碳件和爐子。另外在電加熱爐中還有引起短路的風險。為了減少炭黑,早已采用固定脈沖或多少依照數量和時間調節脈沖的辦法,對供應真空爐的碳氫化合物氣體量進行操控。但這種辦法不能獲得有效成果,并且關于形成一定的滲層深度和一定的鴻溝含碳量有不足之處,便是為了得到與炭黑形成有關的更好的歸納效果,需要對多數不同滲碳件通過實驗確定脈沖程序。因此,只有在不同條件下做大量實驗。