真空爐是一種能夠在高溫下制備材料的設備，一般需要在載體（如石英管）內部抽出氣體，以發明一個低壓環境。在真空爐中，真空度是一個非常要害的目標。
        一般來說，真空爐的真空度要求應該在10^-5至10^-6的范圍內，即每立方厘米的氣體分子數在這個范圍內。一般情況下，真空度越高，材料的制備質量就越高，因此對某些特別領域（如航空、航天）的材料制備，真空度要求可達到10^-8甚至10^-10。